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区熔硅片

采用FZ法拉制高纯度的单晶晶体,并按客户要求加工成不同类型的晶圆片

所属分类:

关键词:

半导体硅材料


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产品详情

产品描述

采用FZ法拉制高纯度的单晶晶体,并按客户要求加工成不同类型的晶圆片

产品用途

区熔硅片分为区熔磨片,区熔腐蚀片和区熔抛光片。

区熔磨片主要应用在中低端晶闸管,可控硅,高压硅堆等半导体器件上。

区熔腐蚀片主要应用在直流大功率晶闸管,整流管等大功率半导体器件上。

区熔抛光片主要应用在光电领域,包括光电二极管,光电耦合电路,光感器件上,应用在功率半导体领域,如IGBT,TVS等功率半导体分立器件上。

参数规格 76.2mm 100mm 125mm 150mm
型号 P,N P,N P,N P,N
晶向 <100>/<111> <100>/<111> <100>/<111> <100>/<111>
电阻率(Ω-cm) P/B 1-30000 1-30000 1-30000 1-30000
N/P 1-10000 1-10000 1-10000 1-10000
厚度(um) 300/400/525 300/400/525 300/400/525 400/525/625/675
腐蚀工艺 酸/碱腐蚀 酸/碱腐蚀 酸/碱腐蚀 酸/碱腐蚀
正表面 抛光 抛光 抛光 抛光
背表面 喷砂,背封 喷砂,背封 喷砂,背封 喷砂,背封
几何参数 TTV(um) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
Bow(um) ≤30 ≤40 ≤30 ≤40
Warp
(um)
≤30 ≤30 ≤30 ≤30
STIR
(um)
≤2.0(15*15) ≤2(15*15) ≤2.0(15*15) ≤2(15*15)

关键词:

关键词:硅片

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