产品详情
产品描述
采用FZ法拉制的高纯度单晶
产品用途
主要用于加工成客户需求的硅片。
| 项目 | 参数规格 |
| 直径 | 25.4mm-200mm |
| 型号 | P,N |
| 晶向 | <100>/<111> |
| 掺杂 | B,P |
| 电阻率(Ωcm) | 1-30000 |
| 1-10000 | |
| 均匀性(RRV) | <8% |
| <15% | |
| 厚度(μm) | 300um-1500um |
| 正表面 | 腐蚀(酸/碱),抛光 |
| 背表面 | 喷砂，腐蚀(酸/碱) |
关键词：
关键词：硅片
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产品描述
采用FZ法拉制的高纯度单晶
产品用途
主要用于加工成客户需求的硅片。
| 项目 | 参数规格 |
| 直径 | 25.4mm-200mm |
| 型号 | P,N |
| 晶向 | <100>/<111> |
| 掺杂 | B,P |
| 电阻率(Ωcm) | 1-30000 |
| 1-10000 | |
| 均匀性(RRV) | <8% |
| <15% | |
| 厚度(μm) | 300um-1500um |
| 正表面 | 腐蚀(酸/碱),抛光 |
| 背表面 | 喷砂，腐蚀(酸/碱) |
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