产品详情
产品描述
采用FZ法拉制高纯度的单晶晶体，并按客户要求加工成不同类型的晶圆片
产品用途
区熔硅片分为区熔磨片，区熔腐蚀片和区熔抛光片。
区熔磨片主要应用在中低端晶闸管，可控硅，高压硅堆等半导体器件上。
区熔腐蚀片主要应用在直流大功率晶闸管，整流管等大功率半导体器件上。
区熔抛光片主要应用在光电领域，包括光电二极管，光电耦合电路，光感器件上，应用在功率半导体领域，如IGBT，TVS等功率半导体分立器件上。
| 参数规格 | 76.2mm | 100mm | 125mm | 150mm | |
| 型号 | P,N | P,N | P,N | P,N | |
| 晶向 | <100>/<111> | <100>/<111> | <100>/<111> | <100>/<111> | |
| 电阻率(Ω-cm) | P/B | 1-30000 | 1-30000 | 1-30000 | 1-30000 |
| N/P | 1-10000 | 1-10000 | 1-10000 | 1-10000 | |
| 厚度(um) | 300/400/525 | 300/400/525 | 300/400/525 | 400/525/625/675 | |
| 腐蚀工艺 | 酸/碱腐蚀 | 酸/碱腐蚀 | 酸/碱腐蚀 | 酸/碱腐蚀 | |
| 正表面 | 抛光 | 抛光 | 抛光 | 抛光 | |
| 背表面 | 喷砂，背封 | 喷砂，背封 | 喷砂，背封 | 喷砂，背封 | |
| 几何参数 | TTV(um) | ≤5 | ≤5 | ≤5 | ≤5 |
| Bow(um) | ≤30 | ≤40 | ≤30 | ≤40 | |
| Warp (um) |
≤30 | ≤30 | ≤30 | ≤30 | |
| STIR (um) |
≤2.0(15*15) | ≤2(15*15) | ≤2.0(15*15) | ≤2(15*15) | |
关键词：
关键词：硅片
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